- Entwicklerflüssigkeit
- f developer* * *Entwicklerflüssigkeit f developer
Deutsch-Englisch Wörterbuch. 2013.
Entwicklerflüssigkeit
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Entwicklerflüssigkeit — Die Entwicklerflüssigkeit (auch Entwickler genannt) hat die Aufgabe, die latenten Bilder eines belichteten Filmes sichtbar zu machen (siehe auch Fotoemulsion). Entwickler sind Reduktionsmittel, auf die belichtete und unbelichtete… … Deutsch Wikipedia
Developer — Entwickler steht für: eine Person die etwas entwickelt, siehe Entwicklungsingenieur, Softwareentwickler und Spieleentwickler Immobilienentwickler, siehe Bauträger eine Chemikalie in der Fotografie, mit der das Bild auf Film oder Papier sichtbar… … Deutsch Wikipedia
Fotoresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Negativresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Photolack — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Photoresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Positivresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Resist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
1,2-Diaminobenzol — Phenylendiamine Name o Phenylendiamin m Phenylendiamin p Phenylendiamin Andere Namen 1,2 Diaminobenzol 1,3 Diaminobenzol 1,4 Diaminobenzol, C.I. 76060 Strukturformel … Deutsch Wikipedia
1,2-Phenylendiamin — Phenylendiamine Name o Phenylendiamin m Phenylendiamin p Phenylendiamin Andere Namen 1,2 Diaminobenzol 1,3 Diaminobenzol 1,4 Diaminobenzol, C.I. 76060 Strukturformel … Deutsch Wikipedia
1,3-Phenylendiamin — Phenylendiamine Name o Phenylendiamin m Phenylendiamin p Phenylendiamin Andere Namen 1,2 Diaminobenzol 1,3 Diaminobenzol 1,4 Diaminobenzol, C.I. 76060 Strukturformel … Deutsch Wikipedia
